关于半导体制造工艺使用的掩膜技术开发，英特尔和大日本印刷日前宣布，将把现有的合作关系扩展到32nm工艺（hp45）。具体来说就是，将在EUV（Extreme Ultraviolet，远紫外）曝光掩膜技术的开发中进行合作。
2000年以后，英特尔和大日本印刷在180nm到45nm（hp65）半导体制造工艺的掩膜技术开发中进行了合作。根据此次的决定，在保持现有合作关系的同时，将进一步强化未来的合作。
作为现有ArF曝光的下一代技术，在国际半导体技术开发蓝图（ITRS）中十分看好EUV曝光技术。为了实现EUV曝光，英特尔和大日本印刷将通力合作，以便能在适当的时期提供掩膜技术。
